隨著印章制造技術(shù)的發(fā)展,光敏印章的使用變的越來(lái)越廣泛了,實(shí)踐中涉及光敏印章印文真?zhèn)涡澡b定的案件也日益增多。與傳統(tǒng)的雕刻類(lèi)印章以及腐蝕類(lèi)印章和原子印章,光敏印章在制作方法上，有其一定的特殊性,其制作設(shè)備十分簡(jiǎn)單,價(jià)格也非常低廉,另外，其制作工藝也非常容易掌握,今天，我們就來(lái)為大家講解一下水晶光敏印章?都有哪些具體的特征。
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一、雜質(zhì)粘附形成的特征
光敏印章在進(jìn)行曝光時(shí),光敏印章墊、膠片和硫酸紙都要盡可能的保持清潔,且要清理干凈;如果清理不干凈,有細(xì)小灰塵、碳粉等顆粒附著在上面,在曝光的過(guò)程中,會(huì)因?yàn)檫@些雜質(zhì)黏附其上,會(huì)使該處覆蓋的光敏材料不會(huì)發(fā)生聚合現(xiàn)象,仍然保持原始狀態(tài),蓋印時(shí)，印油就會(huì)從光敏材料的微孔空隙中滲透到承印物.上,形成固定的瑕疵點(diǎn),這些特征與穩(wěn)定特征相似,如果出現(xiàn)在檢驗(yàn)過(guò)程中利用價(jià)值非常高。
二、打印過(guò)程形成的特征
在制作光敏印章的過(guò)程中,打印機(jī)打印硫酸紙的過(guò)程相同會(huì)形成印跡特征,即打印機(jī)打印方式的設(shè)置或打印機(jī)部件缺陷導(dǎo)致打印出來(lái)的印章模板也有相同的缺陷特征,在印文.上表現(xiàn)出來(lái)的固有特征。
三、不同曝光強(qiáng)度形成的特征
光敏印章的制作過(guò)程中通過(guò)對(duì)光敏印章墊進(jìn)行曝光使印章墊上的微孔發(fā)生閉合，曝光強(qiáng)度不同,印章墊的微孔發(fā)生閉合的情況不同:當(dāng)曝光強(qiáng)度越大時(shí),印章墊的微孔發(fā)生閉合較重,形成的印文文字和圖形印跡顏色略微淺淡;當(dāng)曝光強(qiáng)度越小時(shí),印章墊的微孔發(fā)生閉合較輕,形成的印文的圖文筆畫(huà)略微變粗,文較濃重。
以上就是關(guān)于水晶光敏印章?的幾項(xiàng)特點(diǎn)，總而言之，水晶光敏印章是?現(xiàn)代印章的改變，它聯(lián)結(jié)著科技的變遷。印章變更，一滴一墨，滲透了中華文化的發(fā)展歷程；一筆一劃，篆刻了每一個(gè)時(shí)代的印記。?